摘 要：为提升产品品质，满足市场需求。B19 采用光配向工艺（UV2A）对 PI 膜进行配向，其具有透过率高及广视角等优点，但其又有明显缺陷──拼接 Mura（FDV 曝光机名称，统称 FDV Mura）。通过调整 Mask 位置、改变 PI 液种类、调整照度等方法进行 Mura 改善研究，结果表明：通过优化 Mask Y 方向 offset（将中心暗线调至子像素中心）、选择更为稳定的 PI 液（或加强曝光能量波动控制）、提升 TFT 侧照度或降低 CF 侧照度，对改善 Mura 效果具有较好效果。
关键词：Mask offset；暗线；照度；方位角
DOI:10.19850/j.cnki.2096-4706.2021.19.008
中图分类号：TP394.1；TH691.9 文献标识码：A 文章编号：2096-4706（2021）19-0034-04
Research on Improvement of the FDV Mura
ZHANG Yong, LI Lin, PENG Lin, WANG Zhigang, MAKOTO Kambe
(Display Business B19 Cell Department, BOE Technology Group Co., Ltd., Chengdu 610207, China)
Abstract: In order to improve product quality and meet market demand. B19 uses the optical alignment process (UV2A) for PI film alignment, which has the advantages of high transmittance and wide viewing angle. But it also has an obvious defect—splicing Mura (FDV exposure machine name, collectively known as FDV Mura). Mura improvement research is carried out by adjusting the position of Mask, changing the type of PI liquid and adjusting the illumination and other methods. And the results show that the Mura effect can be improved by optimizing Mask Y direction offset (adjusting the center dark line to the center of sub-pixel), selecting more stable PI liquid (or strengthening exposure energy fluctuation control), increasing TFT side illuminance or decreasing CF side illuminance.
Keywords: Mask offset; dark line; illuminance; azimuth angle
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作者简介：张勇（1981—）男，汉族，吉林吉林人，工程师，本科，研究方向：TFT-LCD 显示器开发与工艺改善研究。